薄膜制备：TiCrVZrAl靶材可以用于物理蒸发沉积和磁控溅射等薄膜制备技术。通过将靶材置于真空腔室中，通过能量输入使其蒸发或溅射，可以得到具有相应成分的薄膜。

高温稳定性：TiCrVZrAl靶材具有较好的高温稳定性，可以在高温环境下保持其结构和性能的稳定性，适用于高温工艺和高温应用。

表面工程：TiCrVZrAl靶材可以用于表面工程，通过沉积薄膜在材料表面改变其化学成分和结构，从而改善材料的性能，如增加硬度、耐磨性、耐腐蚀性等。

材料研究：TiCrVZrAl靶材在材料研究领域中也有应用。通过制备薄膜并对其进行分析和测试，可以研究材料的结构、性能和相互作用，从而推动材料科学的发展。